磁控溅射镀膜设备的磁控溅射靶是采用静止电磁场，而磁场是曲线型的，对数电场用于同轴圆柱形靶均匀电场用于平面靶S枪靶则位于两者间各部分的原理是一样的电子受电场影响而加速飞向基...